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更新時間:2025-11-05
金屬有機化學氣相沉積
propel hvm gan mocvd 系統(tǒng)，用于電源、5g 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5g 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件
更新時間:2025-09-09
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orion proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。
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熱原子層沉積系統(tǒng)
scaler hk430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性。
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卷對卷濺射系統(tǒng)
本裝置在真空狀態(tài)中對pet film，以ito或metal coating的設備, heating, plasma etching, sputter工序可以.
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